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第四十二章 1号试验车间（第4页）
也不外乎是对准器与正负性光刻胶等。
但是它的发展，却一直在求新求变。
从60年代的触式和接近式，到70年代的投影式，再到80年代步进式，甚至新世纪的浸入式以及EUV。
都可以写一本小说了。
光刻机的重要性毋庸置疑，各国也一直在持续投入研发光刻技术。
1978年，美利坚的GCA公司，花费500万美元的巨资，终于开发出了光学图形发生器和分步重复精缩机。
成功研制出了全球第一台，分步重复投影曝光机Mann4800DSW。
将线宽从1·5微米，缩小到了0·5微米节点。
它用的，是波长436纳米的G线，作为曝光光源，CarlZeiss的S-Planar100·28镜头，进行10：1的缩小比例曝光。
可以对10毫米乘以10毫米的区域进行曝光，分辨率可达1微米。
售价45万美元。
相对于之前市场上，那些接触式或接近式的设备，GCA的Mann4800DSW可以说是革命性的。
它不但改变了对准器对晶圆造成的污染，还利用分步重复的大覆盖面，进一步提高了产品的良品率。
但是，它有一个很致命的缺陷，那就是吞吐量太低。
致使生产效率无法提高。
所以，莫非想要的，是新一代步进扫描式投影曝光机。
将光源技术、物镜技术，以及后来的精密工作台的制造技术，全部攥到手里。
至于普通的零部件，满世界有的是商家提供。
不但能货比三家，还可以随时有备胎可以选择。
这才是理想中的形势。
他想尝试一下，看看自己是不是比老美更牛逼。
在光刻机领域内，后世的阿斯麦够牛吧，在高端市场上一统江山，无人能出其右，要多风光有多风光。
但是，仔细分析一下，你就会发现。
阿斯麦的风光，基础并不那么牢靠。
它算得上是一个集大成者的企业，却绝不是一家，可以俯瞰芸芸众生的企业。
因为他自己掌握的核心技术，只有百分之几。
而EUV光刻机的核心技术，集中在哪方面上呢？
答案是德意志蔡司的高精度镜头，同样来自于德意志的精密工作台制造技术，以及2012年收购的Cymer的光源激光技术。
当然了，还有一个方面。
那就是EUV的很多专利，其实都在EUVLLC联盟手里。
而这个联盟是由谁组成的呢？
答案还是美利坚。
其成员包括英特尔、美利坚能源部、摩托罗拉、AMD、美利坚的三大国家实验室劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室、桑迪亚国家实验室……
最后才是阿斯麦。
这样看来，阿斯麦，倒是像极了一个被推到前台的傀儡。
所以，阿斯麦算是应运而生。
为什么这么说呢，就是因为它崛起的时机太好了。
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